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光刻技术进化,ASML 探索 Hyper-NA EUV:2030 推进至 0.7nm 工艺
Lexar 雷克沙 NM Card 存储卡获得 ITMA 协会认证,再次行业领跑
台积电首次提及 1.4nm 工艺技术,2nm 工艺按计划 2025 年量产
三星:目前虽落后于台积电但仍有信心获得大客户 3nm 订单,已与客户开展 2/1.4nm 工艺合作洽谈
三星更新工艺技术路线图:2025 年 2nm,2027 年 1.4nm
消息称台积电多家客户修正制程计划,已采用 4/3nm 的客户几乎都有 2nm 投片规划
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