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High-NA 光刻导致单芯片最大面积减半,imec、英特尔各想办法
imec 推出 N2 节点设计探路“教程”文档,降低研究人员接触尖端制程门槛
ASML 和 IMEC 宣布共同开发 high-NA EUV 光刻试验线
欧洲最大半导体研发机构 IMEC 将在日本建立研究中心,协助研发 2nm 芯片
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